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第2回光電子集積チップLiqiangフォーラムおよびシリコンフォトニクス技術と応用シンポジウムのラボコンパニオンの写真集
第2回光電統合チップ両強フォーラムおよびシリコンフォトニクス技術と応用シンポジウムは、2021年5月14日から18日まで、重慶ラディソンブルーセガホテルで成功裏に開催されました。会議の総規模は900人以上で、そのうち大学の参加者数は約50％、研究機関は約30％、企業は約20％を占め、この分野では超高水準の業界イベントです。
このシンポジウムは、中国光工学会（CSOE）が主催し、ユナイテッドマイクロエレクトロニクスセンター（CUMEC）、CSOEオプトエレクトロニクス集積チップ力強フォーラム専門家委員会、中国電子科学技術グループ第44研究所が共催しました。国家情報光電子イノベーションセンター（NOEIC）、教育部レーザー赤外線システム統合技術重点実験室、山東大学、教育部オプトエレクトロニクス技術システム重点実験室、重慶大学、中国電子科学技術グループ第23研究所、南京理工大学が共同で主催しました。会議中、シンポジウム、オプトエレクトロニクスストリーミングフィルムとソフトウェアトレーニング、オプトエレクトロニクスプラットフォームの展示、円卓会議、人材募集、優秀論文の選定など、さまざまな交流活動が行われ、さまざまな観点から代表者の実際のニーズに応えました。
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